目前，除对少数产品制定国家标准外（如高纯硼酸、高chun冰乙酸、高纯氢氟酸等），大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，在名称上有高纯、特纯（Extra Pure）、超纯、光谱纯等不同叫法。

根据高纯试剂工业专用范围的不同，可将其分为以下几种：

（1）光学与电子学专用高纯化学品，即电子级试剂（EIectronicgrade）试剂。

（2）金属-氧化物-半导体（Metal-Oxide-Semiconductor）电子工业专用高纯化学品，即UP-S级或MOS试剂（读作：摩斯试剂）。一般用于半导体，电子管等方面，其杂质最高含量为0.01-10ppm，有的可降低到ppb数量级，金属杂质含量小于1ppb，尘埃等级达到0-2ppb，适合0.35～0.8微米集成电路加工工艺。

（3）单晶生产用高纯化学品。

（4）光导纤维用高纯化学品。

（5）等离子体质谱纯级试剂（ICP-Mass Pure Grade）：绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，适合等离子体质谱仪（ICP Mass）日常分析工作。

（6）等离子体发射光谱纯级试剂（ICP Pure Grade）：绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，适合等离子体发射光谱仪（ICP）日常分析工作。

（7）原子吸收光谱纯级试剂（AA Pure Grade）绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，适合原子吸收光谱仪（AA）日常分析工作。

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